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清溢光电:已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产
- 发布时间:2024-02-03 21:16 来源:admin
(688138)2月2日发布投资者关系活动记录,公司于1月31日接受了芯片掩膜版的客户测试认证,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm
公开信息显示,成立于1997年,2019年在上交所科创板上市,公司自成立以来一直从事掩膜版的研发、设计、生产和销售业务,是国内成立最早、规模最大的掩膜版生产企业之一。据了解,掩膜版又称光罩、光掩膜等,是平板企业、半导体公司在产品制造过程中进行图形“底片”转移的高精密工具。目前,掩膜版主要应用于平板显示、半导体芯片、触控、电路板等行业。
清溢光电2023年第三季度报告显示,该公司报告期实现营业收入6.68亿元,同比增长21.97%。归属于上市公司股东的净利润9463.18万元,同比增长36.87%。归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润8095.38万元,同比增长44.27%。
截至1日收盘,清溢光电股价报14.31元/股,跌6.47%,总市值38.18亿元。
答:目前平板显示掩膜版市场的需求量较大,与下游厂商新产品的开发息息相关。平板显示掩膜版国产化率较低,国产替代也是重要的影响因素。
答:半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证,正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。
答:公司目前的工厂包括深圳工厂(生产半导体芯片掩膜版及平板显示掩膜版)和合肥工厂(生产平板显示掩膜版),正在筹备佛山工厂。
答:公司作为国内规模最大的掩膜版产品和服务提供商之一,具备各类掩膜版产品设计、研发、制造与销售能力的专业厂商,拥有优质多样的掩膜版产品线。凭借自主创新的技术研发实力、快速的订单响应速度、优质的产品及服务来满足客户需求。
目前国内平板显示和半导体产业快速发展,为满足市场需求,公司不断增加产能,聚焦中高端掩膜版的技术积累和产能布局的升级调整;加大研发投入,布局中高端掩膜版生产工艺、配套建设中高端掩膜版产线;坚持“平板显示掩膜版+半导体芯片掩膜版”互促共进的“双翼”战略,争夺并提升中高端掩膜版产品的市场份额。
与国际竞争对手相比,公司在产品交付中具有运距短、运输便捷的优势,有利于公司提高对国内客户的快速反应能力,能够为客户提供更贴身、更周到、更及时的服务。
此外,在客户后续使用产品的过程中,常常伴随着返清洗、返修、补贴膜等需求,公司本地化的服务能够更好的贴近客户的各种需求。
答:公司拟在佛山市南海区投资人民币35亿元建设佛山生产基地项目,包括“高精度掩膜版生产基地建设项目”和“高端半导体掩膜版生产基地建设项目”,项目总体建设周期为36个月,其中高精度掩膜版生产基地建设项目一期预计建设周期为24个月,高端半导体掩膜版生产基地建设项目一期建设周期为36个月。